對于EUV光刻機(jī)的研發(fā)，困難很多，主要還是在光源這塊。
陳懷慶并不急迫，也沒有想著說，EUV光刻機(jī)在短時間就能夠搞定。
他心理的預(yù)期，在二十年內(nèi)研發(fā)成功，那就完全的沒有問題。
畢竟，EUV光刻機(jī)主要用于10納米以下。
但是也并不是就只有EUV光刻機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)10納米以下制程，像是DUV光刻機(jī)，最高能夠?qū)崿F(xiàn)7納米制程節(jié)點(diǎn)。
甚至陳懷慶還知道，就民用產(chǎn)品...